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- 選択 - 2,2,6,6-Tetramethylpiperidide magnesium chloride / lithium chloride, typ. 22% in THF 4-フルオロフェニルマグネシウムブロミド、typ. 16.5%のTHF溶液（typ. 0.8M） ADMA® 12 アミン ADMA® 1214 アミン ADMA® 14 アミン ADMA® 16 アミン ADMA® 246-451 アミン ADMA® 246-621 アミン ADMA® WCアミン B-PAC Plus™ 高性能水銀吸着剤 B-PAC™ 高性能水銀吸着剤 C-PAC™ Concrete-Friendly™ Mercury Sorbent Diethylaluminum Chloride (DEAC) Diethylaluminum Ethoxide (DEAOE) Diisobutylaluminum Chloride (DIBAC) Diisobutylaluminum Hydride (DIBAH) ETHACURE® (DETDA) ETHACURE® 100 ETHACURE® 100 Plus ETHACURE® 100-LC ETHACURE® 100-ULC ETHACURE® 270 ETHACURE® 300 ETHACURE® 420 ETHACURE® 520 ETHACURE® 534 Ethylaluminum Dichloride (EADC) Ethylaluminum Sesquichloride (EASC) FIRSTCURE® MHPT Accelerator H-PAC™ 高温水銀吸着剤 Isopropenylmagnesium bromide, typ. 10% in THF Isopropenylmagnesium bromide, typ. 22% in 2-Methyl-THF Lanthanum Chloride Lithium Chloride Complex, typ. 15 % solution in THF (typ. 0.6 M) Lithium Acetate, 24% solution Lithium Aluminum Deuteride Lithium Aluminum Hydride, typ. 20 % solution in Diethyl Ether (typ. 4 M) Lithium Bromide, typ. 30 % solution in THF (typ. 4.1 M) Lithium Bromide, typ. 30 % solution in THF (typ. 4.1 M) Lithium Chloride, 36.5% solution Lithium Deuteride Lithium Diisopropylamide, typ. 20% in 4-Methyltetrahydropyrane/ Heptane/ Ethylbenzene Lithium Hexamethyldisilazide (LHMDS), typ. 25 % solution in THF (typ. 1.3 M) Lithium Triethylborohydride, typ 12% solution in 2-Methyl-THF Lithium tert-Amoxide, typ. 40 % solution in Heptane (typ. 3.1 M) Lithium tert-Butoxide, typ. 20 % solution in THF (typ. 2.2 M) MAXXIS®殺生物剤 Magnesium tert-Butoxide, powder Methylmagnesium Bromide approx. 25% in THF / Toluene Phenylmagnesium Bromide, typ. 45 % solution in Diethyl Ether (typ. 2.8 M) Potassium tert-Butoxide, typ. 20 % solution in THF (typ. 1.6 M) Potassium tert-Butoxide, typ. 20% solution in 2-Methyl-THF SANIBROM® 40殺生物剤 SANIBROM® 45殺生物剤 SAYTEX® 621 難燃剤 SAYTEX® 8010 難燃剤 SAYTEX® BT-93 難燃剤 SAYTEX® BT-93W 難燃剤 SAYTEX® CP-2000 難燃剤 SAYTEX® HP-3010 難燃剤 SAYTEX® HP-7010 難燃剤 SAYTEX® RB-49 難燃剤 SAYTEX® RB-79 難燃剤 SAYTEX® RB-7980 難燃剤 SAYTEX® RB-9170 難燃剤 STABROM® 909殺生物剤 STABROM® Plus殺生物剤 Sabalith® (発泡剤を含むLiNO3/KNO3混合物) Tri-N-Butylaluminum (TNBA) Tri-N-Hexylaluminum (TNHA) Tri-N-Octylaluminum (TNOA) Triethylaluminum (TEA) Triethylaluminum (eTMA) Triisobutylaluminum (TIBA) Trimethylaluminum (TMA) Trimethylaluminum High Purity (TMA-HP) Trimethylaluminum Solar Purity (TMA-SP) Ultra-Low Hydride Triethylaluminum (ULH-TEA) WELLBROM® 12.5 Completion Fluid WELLBROM® 14.2 Completion Fluid Zinc pivalate x Lithium chloride, typ 22% in 2-Methyl-THF Zinc pivalate x Lithium chloride, typ 22% in THF n-Butylethylmagnesium (BEM) n-Butylmagnesium Chloride, typ. 20 % solution in THF (typ. 1.7 M) n-Butylmagnesium Chloride, typ. 23 % solution in THF / Toluene n-ブチルリチウム、通常シクロヘキサン中の20%溶液（2.3 M） n-ブチルリチウム、通常シクロヘキサン中の24%溶液（2.8 M） n-ブチルリチウム、通常トルエン中の10.5%溶液（1.4 M） n-ブチルリチウム、通常トルエン中の20%溶液（2.7 M） n-ブチルリチウム、通常ヘキサン中の15%溶液（1.6 M） n-ブチルリチウム、通常ヘキサン中の23%溶液（2.5 M） n-ブチルリチウム、通常ヘキサン中の24%溶液（基準値2.5 M） n-ブチルリチウム、通常ヘキサン中の30%溶液（3.3 M） n-ブチルリチウム、通常ヘキサン中の90%溶液（10.7 M） n-ブチルリチウム、通常ヘプタン中の29%溶液（基準値3.2 M） n-ヘキシルリチウム、通常ヘキサン中の33%溶液（基準値2.5 M） sec-ブチルマグネシウムクロリド/塩化リチウム (TurboGrignard)、通常THF中の15%溶液（基準値1.2 M） sec-ブチルリチウム、通常シクロヘキサン中の12%溶液 tert-Butyllithium, typ. 18 % solution in Heptane (typ. 2.0 M) tert-ブチルマグネシウムクロリド、通常ジエチルエーテル中の25%溶液（基準値1.7 M） tert-ブチルリチウム、通常ヘプタン中の18%溶液（基準値2.0 M） tert-ブチルリチウム、通常ペンタン中の18%溶液（基準値1.9 M） アリルマグネシウムクロリド、typ. 18%のTHF溶液（typ. 1.7M） アルミン酸テトラフルオロセシウム 錯体50:50、純度99%以上 アルミン酸テトラフルオロセシウム 錯体60:40、純度99%以上 イソプロピルマグネシウムブロミド、通常2-メチルTHF中の40%溶液（基準値3 M） クエン酸リチウム、四水和物 クエン酸リチウム四水和物、粉砕 サバリス®「S」(LiNO3/KNO3混合物、発泡剤なし) シクロヘキシマグネシウムクロライド、通常THF/トルエン中の20%溶液（基準値1.3 M） ジブチルマグネシウム溶液、通常ヘキサン中15%（基準値0.7 M） ジルコニウムニッケル合金30/70 A ジルコニウムニッケル合金70/30 A ジルコニウムニッケル合金70/30 B ジルコニウム金属粉末、グレードAB、アセトンに懸濁 ジルコニウム金属粉末、グレードAB、乾燥 ジルコニウム金属粉末、グレードAB、水性懸濁液 ジルコニウム金属粉末、グレードCA、乾燥 ジルコニウム金属粉末、グレードCA、湿潤品、アセトンに懸濁 ジルコニウム金属粉末、グレードCA、湿潤品、エチルアルコールに懸濁 ジルコニウム金属粉末、グレードCA、湿潤品、水性 ジルコニウム金属粉末、グレードCX、水性懸濁液 ジルコニウム金属粉末、グレードFA、水性懸濁液 ジルコニウム金属粉末、グレードFAタイプ1、乾燥 ジルコニウム金属粉末、グレードGA、乾燥 ジルコニウム金属粉末、グレードGA、湿潤品、水性懸濁液 ジルコニウム金属粉末、グレードGH、乾燥 ジルコニウム金属粉末、グレードGH、湿潤品、水性懸濁液 ジルコニウム金属粉末、グレードMX、乾燥 ジルコニウム金属粉末、グレードMX、湿潤品、水性懸濁液 ジルコニウム金属粉末、グレードXP、乾燥 ジルコニウム金属粉末、グレードZE、乾燥 ジルコニウム金属粉末、グレードZE、湿潤品、水性懸濁液 ジルコニウム金属粉末、グレードZM、アセチルサリチル酸懸濁液 ジルコニウム金属粉末、グレードZM、乾燥 ジルコニウム金属粉末、グレードZM、湿潤品、水性懸濁液 ジルコニウム金属粉末、グレードZS、乾燥 ジルコニウム金属粉末、グレードZS、湿潤品、水性懸濁液 スポジュメン濃縮物、SC 5.0 スポジュメン濃縮物、SC 6.5 スポジュメン濃縮物、SC 6.8 スポジュメン濃縮物、SC 7.2プレミアム スポジュメン濃縮物、SC 7.2プレミアム 75μm スポジュメン濃縮物、SC 7.2標準 チタン金属粉末、グレードEP、乾燥 チタン金属粉末、グレードE、乾燥 チタン金属粉末、グレードE、湿潤品 チタン金属粉末、グレードS (8 µm)、乾燥 チタン金属粉末、グレードS (9.5 µm)、乾燥 チタン金属粉末、グレードS (< 25 µm)、乾燥 トリメチルシリル-メチルリチウム、ヘキサン（基準値0.7 M） ハフニウム化水素、グレードPS フェニルリチウム、通常ジブチルエーテル中の20%溶液（1.9 M） フッ化セシウム、純度99.9%以上 フッ化セシウム、純度99.9%以上、スーパードライ フッ化セシウム、純度99.99%以上 フッ化セシウム、純度99.9％以上（70％水溶液） フッ化リチウム、テクニカルグレード ヘキサメチルジシラジドリチウム(LHMDS)、THF中の通常24％溶液と2-メチル-2-ブテン（標準値 1.3 M） ヘキサメチルジシラジドリチウム（LHMDS）、THF / エチルベンゼン中の通常20％溶液（標準値 1.1 M） マグネシウムクロロ2,2,6,6テトラメチルピペリジドリチウム塩化物錯体、通常THF/トルエン中の20%溶液（基準値1.0 M） メチルリチウム、通常2-メチル-THF/クメン中の3%溶液 メチルリチウム、通常ジエチルエーテル中の5%溶液（基準値1.6 M） メチルリチウム、通常ジエトキシメタン中の8.0%溶液（基準値3 M） メチルリチウム、通常臭化リチウムを含むジエチルエーテル中の6%溶液（基準値2.2 M） モリブデン酸リチウム、最小37％溶液 ヨウ化セシウム、純度99.999%以上 ヨウ化セシウム、純度99.999%以上、TlI添加 ヨウ化セシウム、純度99.999%以上、スーパードライ ヨウ化セシウム、純度99.999%以上、ヨウ化ナトリウム175ppm添加 ヨウ化セシウム、純度99.999%以上、ヨウ化ナトリウム200ppm添加 ヨウ化セシウム、純度99.999%以上、ヨウ化ナトリウム250ppm添加 ヨウ化タリウム、粉末、最高純度 ヨウ化タリウム、顆粒、最高純度 リチウム-トリ-(tert-ブトキシ)-アルミニウム水素化物、THF中の通常30％溶液（標準値 1.1 M） リチウムtert-ブトキシド、粉末 リチウムアセチリド - エチレンジアミン複合体 (LAEDA) リチウムアミド、粉砕 リチウムアルミニウム水素化物、THF / トルエン中の通常15.3％溶液（標準値 3.6 M） リチウムアルミニウム水素化物、THF /トルエン中の通常15％溶液（標準値 3.5 M） リチウムジイソプロピルアミド、ヘプタン / THF / エチルベンゼン中の通常25％溶液（標準値 1.9 M) リチウムジイソプロピルアミド、ヘプタン / THF / エチルベンゼン中の通常28%溶液（標準値 2.1 M） リチウムトリエチルボロヒドリド、THF中の通常12％溶液（標準値 1.0 M) リチウムメトキシド、メタノール中の通常10％溶液（標準値 2.2 M） リチウムメトキシド、粉末 リチウム金属 リン酸リチウム、テクニカルグレード リン酸リチウム、触媒グレード 塩化tert-ブチルマグネシウム、通常THF中の20%溶液（基準値1.7 M） 塩化イソプロピルマグネシウム/塩化リチウム、通常THF中の14%溶液（基準値1.3 M） 塩化イソプロピルマグネシウム、通常THF中の20%溶液（基準値1.9 M） 塩化エチルマグネシウム、通常THF/トルエン中の5%溶液（基準値0.6 M） 塩化エチルマグネシウム、通常THF中の25%溶液（基準値2.8 M） 塩化セシウム、純度99.9%以上 塩化セシウム、純度99.99%以上 塩化セシウム、純度99.999%以上 塩化セシウム、純度99％以上（50％水溶液） 塩化フェニルマグネシウム、通常THF中の25%溶液（基準値1.9 M） 塩化メチルマグネシウム、通常THF中の22%溶液（基準値3 M） 塩化リチウム、40％水溶液 塩化リチウム、低ナトリウム 塩化リチウム、工業用、顆粒 塩化亜鉛 2,2,6,6-テトラメチルピペリジンリチウム塩化物錯体、通常THF中の17%溶液（基準値0.7 M） 塩化亜鉛、通常2-メチル-THF中の25%溶液 安息香酸リチウム、テクニカルグレード 安息香酸リチウム、純粋 水素化アルミニウムリチウム、2-メチルTHF中の通常10％溶液（標準値 2.2 M） 水素化アルミニウムリチウム、THF中の通常10％溶液（標準値 2.4 M） 水素化アルミニウムリチウム、ふるい分け済み（< 1 mm） 水素化アルミニウムリチウム、微結晶性 水素化アルミニウムリチウム、錠剤（標準値 0.6 g） 水素化カルシウム、グレードB 水素化カルシウム、グレードK 水素化カルシウム、グレードM 水素化カルシウム、グレードO 水素化カルシウム、グレードS 水素化ジルコニウム、グレードF 水素化ジルコニウム、グレードG 水素化ジルコニウム、グレードPS 水素化ジルコニウム、グレードS 水素化チタン、グレードG 水素化チタン、グレードN 水素化チタン、グレードP 水素化チタン、グレードT 水素化チタン、グレードU 水素化チタン、グレードVM 水素化トリエチルホウ素リチウム、THF中の通常20％溶液（標準値 1.7 M） 水素化ホウ素リチウム、THF中の通常10％溶液 水素化リチウム、粉末 < 100 μm 水酸化カリウム50%溶液 水酸化カリウムフレーク 90% 水酸化セシウム、純度99.95％以上（50％水溶液） 水酸化セシウム、純度99.9％以上（50％水溶液） 水酸化セシウム、純度99％以上（50％水溶液） 水酸化セシウム一水和物、純度99.95%以上 水酸化リチウム一水和物、テクニカルグレード、自由流動性、最小。最小値 56.5％。 水酸化リチウム一水和物、標準、標準値 55％ 水銀制御臭化カルシウム 水銀制御臭化ナトリウム、40%溶液 水銀制御臭化ナトリウム、45%溶液 水銀制御臭化ナトリウム、固体 火工品用硝酸セシウム、純度99.9%以上 炭酸セシウム, 99.99 % 炭酸セシウム、ミルドグレード、純度99.9%以上 炭酸セシウム、純度99.9%以上 炭酸セシウム、純度99.9％以上（50％水溶液） 炭酸セシウム、純度99％以上（50％水溶液） 炭酸リチウム、テクニカルグレード 炭酸リチウム、医薬品グレード 炭酸リチウム、微粉 炭酸リチウム、技術グレード、最低純度99.0 % 炭酸リチウム、技術グレード、最低純度99.0%、粉砕 < 100μm 炭酸リチウム、技術グレード、最低純度99.0%、粉砕 < 40μm 無水臭化リチウム（原産国：米国） 硝酸セシウム、純度99.9%以上 硝酸セシウム、純度99.99%以上 硝酸リチウム、テクニカルグレード 硝酸リチウム、ピュアグレード 硫酸セシウム、純度99.9%以上 硫酸セシウム、純度99.99%以上 硫酸セシウム、純度99％以上（50％水溶液） 硫酸リチウム、技術グレード、最低純度99.0％ 硫酸リチウム、純粋、無水、最低純度99.0％ 窒化リチウム 臭化エチルマグネシウム、通常2-メチルTHF中の40%溶液（基準値3.4 M） 臭化エチルマグネシウム、通常MTBE中の15%溶液（基準値0.9 M） 臭化エチルマグネシウム、通常THF中の8%溶液（基準値0.55 M） 臭化エチルマグネシウム、通常ジエチルエーテル中の40%溶液（基準値3.1 M） 臭化セシウム、純度99.999%以上 臭化セシウム、純度99.999%以上、スーパードライ 臭化フェニルマグネシウム、通常2-メチル-THF中の45%溶液（基準値2.9 M） 臭化フェニルマグネシウム、通常THF中の15%溶液（基準値0.8 M） 臭化メチルマグネシウム、通常2-メチルTHF中の35%溶液（基準値3.2 M） 臭化メチルマグネシウム、通常ジエチルエーテル中の35%溶液（基準値3.0 M） 臭化リチウム 臭化リチウム、通常54％水溶液（阻害剤なし） 臭化リチウム、通常55％水溶液（モリブデン酸阻害） 臭化リチウム、通常55％水溶液（硝酸塩阻害） 臭化亜鉛/臭化リチウム、通常ジブチルエーテル中25%溶液 過塩素酸リチウム、ピュアグレード 過酸化リチウム 酢酸セシウム、純度99.9%以上 酢酸リチウム、テクニカルグレード 酢酸リチウム、テクニカルグレード、粉末 酢酸リチウム、純グレード